Nuevo sistema de curado UV NUVA2 para aplicaciones anchas

GEW revelará en drupa 2016 varias e importantes innovaciones en sistemas UV, y presentará su amplio portafolio de sistemas de curado UV que comprenden los de arco de mercurio, LED, e híbridos, junto con las asociadas completamente híbridas fuentes de alimentación electrónica RHINO ArcLED.

Todos los sistemas se verán en el estand A28 –Pabellón 12–, así como varias innovaciones más que serán oficialmente lanzadas en drupa. El foco de la exhibición de GEW será la última versión de su sistema UV, NUVA2, para aplicaciones muy anchas, disponible en anchos de hasta 2,5 m desde una sola lámpara. Se trata de una solución versátil con sistema UV completamente enfriado por aire para aplicaciones de bobina o de hoja en los sectores de la impresión, recubrimiento y conversión. Los reflectores activos de enfriado por aire y ajustados de forma óptica maximizan el efecto del curado con las lámparas mientras que, al mismo tiempo, reducen la radiación con calor en el sustrato.

NUVA 2 puede ser fácilmente actualizado, en una etapa más adelante, a operación LED. Un cassette lámpara en arco, y un cassette LED pueden ser operados intermitentemente y de forma constante en la misma unidad de impresión utilizando la misma fuente de alimentación electrónica RHINO ArcLED, el panel de control y el cableado -la única herramienta necesaria es una llave Allen-.

El control de dosis UV multipunto en línea permite un monitoreo consistente de la producción UV durante el proceso de curado. Este actúa como un medidor de intensidad UV incorporado, y mide la intensidad actual a través del ancho completo de la lámpara, con gran precisión antes de que la dosis equivocada pueda llegar a tener un impacto en la producción. La intensidad baja que no cura adecuadamente se evita de esta manera, como sucede con la producción insuficiente de una lámpara degradada, eliminando así tiempos muertos, y generando una eficiencia en la producción.